ICBP®ナノは、ECMテクノロジーの真空浸炭・真空浸炭窒化シリーズの中で最も新しい製品。
ICBP®ナノは、生産ラインに組み込むことができ、それによりサイクルタイムを短縮し、機械加工から熱処理までのフローをシンプルにすることができます。
ICBP®ナノは、3つの加熱セルを縦に重ねたモジュールと、ヘリウムまたは窒素使用の冷却用ガス焼入れセルからなります。（加熱モジュールを2基にすれば、加熱セル6基に増設可能）加熱セルを縦に重ねたことで工業生産用真空設備の省スペース化が図れました。
製品のページ
ICBPナノ 真空浸炭、真空浸炭窒化用に最もコンパクトな設備
この設備は、低歪変形を達成しつつ、チャージ間の優れた均一性、再現性を保証します。各加熱セルは個別制御で、温度、ガス注入、熱処理条件をセルごとに変えて処理できます。フレキシブルかつコンパクトな設備で、生産性改善と熱処理の質向上を保証します。
- 真空浸炭
- 真空浸炭窒化
- ガス焼入れ
- ヘリウム (He) または窒素 (N2)
- 最大圧力10バール（オプションで20バール）
- 高温焼戻し
- 真空焼鈍
- ろう付け
- 焼結
ICBP® Nano 300 (3 cells configuration)
| 5500 x 3800 x 3800
幅 x 長さ x 高さ |
ICBP® Nano 600 (6 cells configuration)
| 8000 x 3800 x 3800
幅 x 長さ x 高さ |
- 以下の規格への適合
- AMS2750
- CQI9
- 中性ガス対流装置
- 高温処理オプション
- 冷却水循環装置
- 焼入れ用ガス回収システム（ヘリウム用）
- 炉および付帯設備（洗浄機、プレヒーター、焼戻し炉、一時保管場所、搬送システム、搬出装置など）のライン組み込みが可能。
- ロボットによる完全自動化ゾーン・ラインのターンキーソリューションも可能。
当社の真空浸炭炉シリーズ
